ECV光刻机是一种用于微电子制造的高精度光刻设备。它采用光学投影技术，将掩模上的图案通过透镜投射到光刻胶层上，然后通过化学反应将图案转移到硅片上，形成微电子芯片的图案。ECV光刻机具有高分辨率、高精度、高可靠性、高速度等特点，广泛应用于半导体、集成电路、液晶显示器等领域。同时，ECV光刻机也是微电子技术发展的重要支撑设备之一，为电子信息产业的发展做出了重要贡献。